大河半導體

DAF 固晶機

第二代 DAF 記憶體 DRAM 晶片固晶機

D-MARS PLUS

D-MARS PLUS

D-MARS PLUS

第二代 DAF 記憶體 DRAM 晶片固晶機

緊湊型第二代 DAF 熱壓固晶機,可全面替代日本 FASFORD 設備。小尺寸設計在不犧牲產能的前提下提升無塵室空間利用率。

核心指標

3500UPH
實際產能
±10μm
精度 @3σ
500ms
節拍時間
12"
最大晶圓

產品優勢

高精度 ±10μm @3σ

角度精度 ±0.1° @3σ。

DAF 與 Epoxy 雙點膠系統

採用點膠獨立控制系統,膠量控制更加精確。

緊湊型小尺寸設計

佔地面積更小,無塵室適應性更好。

治具高相容性

可相容 F 公司 DB830 系列機型的大多數治具,尺寸相近,無需額外場地支出。

設備特點

高速度

UPH 3000。

高自動化

全自動進料與出料料倉處理系統,支援 SMEMA 聯機通訊協定與 SECS/GEM 協定;能夠根據溫度變化和固晶檢測自動進行固晶位置補償。

視覺識別系統

1920×2560 解析度,256 灰階,角度誤差 ±0.1°;支援膠量、形狀、位置和固晶後等項目的自動檢查。

控制系統

採用音圈扭力環和編碼器穩定控制邦定壓力,可編程調節力度 20–3000g;支援 EPOXY IQC 和 POST IQC 圖形顯示。

規格參數

機器性能
節拍時間500 ms
XY 放置精度±10μm @ 3sigma
旋轉精度±0.1° @ 3sigma
材料處理能力
晶片尺寸0.9×0.9 – 25×25 mm
晶片厚度0.7 – 0.04 mm
晶圓工作台
晶圓尺寸max 12"
晶片最大角度修正±180°
鍵頭系統
邦定力度50 – 7000 g (programmable)
機器尺寸和重量
尺寸2160×1400×1650 mm (L×W×H)
重量2100 kg

規格參數可能調整,如需最新版規格書請與我們聯繫。

應用案例

  • DFN
  • LGA / BGA
  • TTSOP
  • SOT
D-MARS 6600

D-MARS 6600

D-MARS 6600

DAF 熱壓固晶機

D-MARS 產品線的第一代 DAF 熱壓固晶機,配備 DAF 與 Epoxy 雙點膠系統,並與 F 公司 DB800 系列治具廣泛相容。

核心指標

2500UPH
實際產能
±15μm
精度 @3σ
600ms
節拍時間
12"
最大晶圓

產品優勢

高精度 ±15μm @3σ

角度精度 ±0.1° @3σ。

DAF 與 Epoxy 雙點膠系統

點膠獨立控制,膠量控制更精確。

相容 DB800 系列治具

可相容 F 公司 DB800 系列大多數治具,機台尺寸相近。

規格參數

機器性能
節拍時間600 ms
XY 放置精度±15μm @ 3sigma
旋轉精度±0.1° @ 3sigma
材料處理能力
晶片尺寸0.9×0.9 – 25×25 mm
晶片厚度0.7 – 0.05 mm
晶圓工作台
晶圓尺寸max 12"
晶片最大角度修正±180°
鍵頭系統
邦定力度50 – 3000 g (programmable)
機器尺寸和重量
尺寸2400×1500×2000 mm (L×W×H)
重量2500 kg

規格參數可能調整,如需最新版規格書請與我們聯繫。

應用案例

  • DFN
  • LGA / BGA
  • SOT
  • TTSOP

告訴我們您的產線、晶片規格與良率目標。

預約展示